大伙兒應(yīng)當(dāng)都了解，在生產(chǎn)制造處理芯片的情況下，有兩個大中型機器設(shè)備，一個是光刻技術(shù)，此外一個便是蝕刻機，那麼有的盆友便會問，什么叫光刻技術(shù)，什么叫蝕刻機，它倆究竟有什么差別呢？今日我們就跟大伙兒好好說說哈，當(dāng)期知識要點很聚集，大伙兒都聽好了哈。
這倆設(shè)備簡易的表述便是光刻技術(shù)把原理圖投射到遮蓋有光刻技術(shù)的單晶硅片上邊，刻蝕機再把剛剛畫了原理圖的單晶硅片上的不必要原理圖浸蝕掉，那樣看上去好像沒有什么難的，可是有一個品牌形象的形容，每一塊處理芯片上邊的電源電路構(gòu)造變大成千上萬倍看來比全部北京市都繁雜，這就是這光刻技術(shù)和蝕刻的難度系數(shù)。
光刻技術(shù)的全過程就是目前制做好的硅圓表層涂上一層光刻技術(shù)（一種能夠被光浸蝕的膠狀物化學(xué)物質(zhì)），接下去根據(jù)光源（加工工藝難度系數(shù)紫外線＜深紫外線＜極紫外線）通過掩膜照射硅圓表層（相近投射），由于光刻技術(shù)的遮蓋，照射的一部分被浸蝕掉，沒有陽光照射的一部分被留下，這些就是必須的電源電路構(gòu)造。
蝕刻分成二種，一種是干刻，一種是濕刻（現(xiàn)階段流行），說白了，濕刻便是全過程中有冰添加，將上邊歷經(jīng)光刻技術(shù)的圓晶與特殊的化學(xué)溶液反映，除掉不用的一部分，剩余的就是電源電路構(gòu)造了，干刻現(xiàn)階段都還沒完成商業(yè)服務(wù)批量生產(chǎn)，其基本原理是根據(jù)等離子技術(shù)替代化學(xué)溶液，除去不用的硅圓一部分。
現(xiàn)階段在我國光刻技術(shù)和蝕刻機的發(fā)展趨勢非常尷尬，歸屬于比較嚴(yán)重兩極分化的狀況，中微半導(dǎo)體7nm蝕刻機的批量生產(chǎn)，立即邁進全球隊伍，5nm蝕刻機也在試驗環(huán)節(jié)，在這里兩條道路上，蝕刻機要繼續(xù)努力，而光刻技術(shù)則必須奮起直追。